摘要： 本实用新型涉及真空设备领域，公开了一种表面处理系统和腔体结构，腔体结构包括：料盒、射频电极和接地电极；表面处理系统包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体

摘要： 本实用新型涉及等离子处理设备领域，公开了一种平板电极结构和应用了该种平板电极结构的等离子体沉积设备，平板电极结构包括：至少一个阴极和一个阳极，且这些阴极和阳

摘要： 本实用新型涉及真空等离子体设备领域，公开了一种导气装置、真空腔和真空等离子体设备，导气装置包括导气杆，导气杆设置于真空等离子体设备的真空腔内，导气杆的外壳围

摘要： 本发明涉及真空设备领域，公开了一种等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构，等离子体设备腔体结构包括：料盒、射频电极和接地电极；等离子体表面处理设备包括设

摘要： 本发明涉及真空等离子体设备领域，公开了一种导气杆、真空腔和真空等离子体设备，导气杆设置于真空等离子体设备的真空腔内，其外壳围合形成中空腔体，端部设置有气体入

摘要： 本发明提供一种在物体表面形成保护层的方法，包括：将所述物体的至少一部分表面暴露于等离子体中，形成所述等离子体的气体至少包括由化学式(I)表示的化合物，其中，R1、

择要： 本发明公开一种可正确控制每层厚度、以及均匀度，增长膜层与基体粘合力的低压等离子化学气相沉积的方法，本方法步骤如下：a.往反应腔内放置基体工件，对反应腔进行抽真

择要： 本发明提供了一种基于低压等离子化学气相沉积制备纳米多层膜的装配，包括：用于放置基体工件的真空的反应腔；向所述反应腔内持续供应氧气的氧气输送体系；向所述 反应

择要： 本发明公开一种膜层纯度高，可正确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装配，包括有反应室、抽气设备、气体输送体系和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送体系与反应室连

择要： 本发明公开一种无论多路气路如何切换，都可以保证流量器流出气量稳固的真空反应体系，包括有多条主气路和真空反应腔，每条主气路与真空反应腔连接，在主气路上沿供气方