首先，何为CVD镀膜法？

所谓CVD（化学气相沉积），就是对材料气体进行加热，等离子分解，再使其沉积到基材外观的镀膜方法。可形成覆盖性优秀的薄膜。

CVD工艺，是将具有蒸汽压力的原材料进行气化，以气体状况供给到反应槽，给予其肯定的能量使其进行分解?反应，并在基材的外观沉积形成薄膜。

热力CVD工艺，是通过热源将质料气体进行分解进行成膜的。

比如:对硅烷（SiH4）进行热分解，可形成多结晶硅Si。此时假如在氧气气氛下进行分解的话，可以形成SiO2。

通俗的热力CVD，因质料气体的供给因部位的不同而存在多少之分，会有厚度不均匀的情况。

假如使用减压CVD（LPCVD）这一方法，可延伸分子的平均自由行程，使得分子更易于扩散，得到进步膜厚均一性的结果。

假如使用高频能量代替高热力能量的话，可实现低温状况下镀膜。

此制备方法被称为PlasmaCVD（等离子CVD）。

电极与基材相对，通过高频放电，将原材料进行分解镀膜。

质料气体种类雄厚多彩

Bulk Silane Installation (CGA)

为了使用硅烷必须具备人员防护体系

小我防护器具

必须有充足的考量用以珍爱人员。

•General Cylinder Handling 一样平常钢瓶操作

-leather gloves 皮手套

-Faceshield in addition to safety glasses 安全眼镜外加悬挂面罩

-leather gloves or equivalent flame resistant hand protection 皮手套或划一级防火手部防护

•Emergency Operations 紧急应变操作

-Full body Nomex with hood 全身连帽Nomex防护服

Silane Incidents 硅烷相干事故

•Accidental backflow of Nitrous Oxide into Silane Cylinder – System Design Issue 一氧化二氮 不测倒流流入硅烷钢瓶–体系设计题目

•Cylinder Connection Leak Incident, US 2004 – Improper cylinder connection 2004年,美国钢瓶衔接点走漏事故- 接头不良

•Taiwan, Silane Explosion, Nov. 23, 2005 – Operation Issue 2005 年11 月23日, 台湾硅烷爆炸–操作缘故原由

•Silane Leak & Explosion Changsha, China Aug 17, 2009 –Operation Issue 2009 年8月17日, 中国长沙硅烷走漏及爆炸–操作因素

•Silane fire in South China, Jul. 20 2011 – System Design Issue 2011 年7月硅烷火灾，中国南方– 体系设计题目

HEXAMETHYLDISILOXANE

Vapor pressure 55mmHg(30℃）

优胜的质料气体与镀膜工艺结合

这种优胜的质料气体与神钢KOBELCO等离子CVD技术的完善搭配，为大型水汽组隔膜的量产线增长了保障。目前日本的面向OLED，QD的水汽组隔膜制造商都在使用神钢KOBELCO的CVD设备进行产品的制造。

纳米防水网：/