PACVD 技术简介
PACVD 离子增强化学气相沉积是在高度真空环境,温度低于 200 ℃的情况下,沉积极度光滑,粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺, PaCVD 工艺应用深镀电源,无需阴极靶材,同时工件在炉膛中无需旋转,该工艺为干净无污染,可靠,和多性能的涂层工艺。 PACVD 又叫 PECVD 。
加工温度
PACVD 涂层的加工温度在 200 ℃以下,大多数材料都能被用来涂层。
典型的涂层零件
PACVD 可用于绝大多数基体材料,电导材料和绝缘材料,典型应用包括发动机货物机械零件、泵零件、医疗器件和装饰件。
典型的涂层类型
爱恩邦德 PACVD 过程沉积大量的 ADLC 涂层。这一设计运用于特别的应用领域,包括高细密应用领域,低应力应用领域和陶器应用领域。
涂层极高硬度( 10 — 40Gpa ),在结构组织上无定形并含有约 70% 的 SP3 bondings。
涂层厚度为 2~3 微米,典型的工艺时间大约 3.5 小时。
技术过程上风
• 适合多种材料
• 削减工艺时间,进步生产服从
• 低工艺温度,尺寸变形小
• 涂层厚度均匀,无论对几何外形简单照旧复杂的零件
• 工艺对环境无污染
• 可对内孔进行涂层
PACVD 加工过程
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