当前重要使用的 Parylene N、C、D 系列产品具有浩繁的优秀性能 ,但其抗紫外线性能弱,这个不足在某种程度上限定了其应用。 为改善上述缺陷 ,在亚甲基上引入 F 原子 ,可有用改善其抗紫外线,因此 Parylene AF4 应运而生,成为一种新型的涂敷材料。本文从 Parylene AF4 环二体的合成、薄膜制备过程及特征、热点研究领域和应用前景等几方面对该种新型材料进行综述。

尽管 Parylene AF4 具有优秀的性能, 但其单体 AF4 环二体合成困难,限定了 Parylene AF4 的广泛应用。从 20 世纪 60 年代至今,许多人致力于探索AF4 的合成方法。1969年 ,美国联合碳化物公司采用高温裂解还原的方法首次合成了 AF4 ,合成反应式 如图 1 所示。但是该方法获得的产品纯度差、收率低 ,因此未能大规模生产。

1993 年, Dolbier 研究小组采用低价态的 Ti 化合物作为还原剂脱溴合成 AF4 ,反应方程如图 2。该方法比第一种方法相对容易实现 ,AF4 收率达 32 %。

但是在该过程中必要较高的稀释倍数。浓度的增大 会导致低聚物含量的增长 ,因此限定了放大实验的可行性。上述 2 种方法只能用于实验室合成 ,每次合成 数量限制在克量级 ,无法实现批量生产。

2.薄膜性能及制备工艺

但是因为 Parylene AF4 单体分子的特别性 ,使得现有的设备不能够提供有用的沉积控制和较高的质料行使率及所需的涂层速率。苏州PENTA公司在原有设备的基础上在沉积室内增长了基体控温装配和沉积室壁的加热装配 (防止腔室壁上沉积) ,有用地进步了质料行使率并成功实现了 Parylene AF4 在硅基体上的涂敷。

Parylene C 是该系列产品中性能较优、应用最广 泛的物质。表 1 给出了 Parylene AF4 与 Parylene C 各 种性能参数的比较。

3.研究领域

3.1单体合成

3.2　沉积动力学

基于物理吸附的动力学模型研究较多,分别采用 Flory 吸附、Langmuir 吸附及 Brunauer-Emmett-Teller(BET) 吸附来定义生长薄膜外观的单体浓度 ,模型方程表达为包括外观反应或者外观和聚集态反应 (假定在薄膜生长过程中单体扩散进入薄膜的聚集态中) 的情势,用单体压力和基体温度的函数来描述 沉积速率。这些模型均建立在动力学控制的基础上 ,方程中包含动力学速率常数和覆盖率 ,例如速率 方程情势为 :速率 = ( Ki Kp D) 1/ 2 (θ) 2 ,其中 Ki 、Kp 和 D 是引发、增加和扩散速率常数 ,θ是覆盖率。上述3 种基于物理吸附的模型中,外观覆盖率 (外观浓度) 随着温度的降低和压力的增长而增长 ,覆盖率主导着方程使得模型在肯定范围内近似地吻合实验数据。

3.3改善薄膜与基体结合力

3.4外观改性

3.5 离子束辅助沉积

3.5薄膜复合材料的制备

据美国专利局统计数据表现,2002年有 267 项 被授予的专利提到了 Parylene 的某种应用。相比而言 ,1995年只有 43 项。目前,从通俗领域到鲜为人知的领域,Parylene 都有应用,其所涵盖的应用市场从太空深处的遨游飞翔器、汽车发动机一向到心脏调搏器、微流体控制装配的制造、图像制作设备及军事电子产品等。在每种应用中,选择 Palylene 都 是基于其一种或几种基本特征。

我们是一家一向坚持以不妥协的品质、高效服务和用户至上、信誉为本原则来服务客户的企业。公司17年一向潜心于真空技术的研发、制造与销售。重要产品有派瑞林（Parylene）真空气相沉积镀膜机，真空脱气炉，高温真空充氮烤箱，Sputtering System 溅射机，XeF2二氟化氙蚀刻机等及零配件，还有质料聚对二甲苯N/C,D和AF4。假如您对我们的产品与服务有任何疑问迎接您随时联系我们，我们将全力以赴为您服务！百腾爱惜与您每一次合作，我们一向在追求创新更有用的服务！必要详细的产品资讯请垂电或者邮件我们：