《真空镀膜技术》专题已经来到了最后一期，感谢各位的支撑！你们的支撑是我们坚持的动力。上期我们说的是真空镀膜，这期我们就来说说，膜厚的计算及测量。

膜厚的计算

在真空中气体分子的平均自由程为：L = 0.65 / p (cm)，其中p的单位是Pa。当p = 1.3×10-3 Pa时，L≈500 cm。L>>基片到蒸发源的距离，分子作直线活动。

设蒸发源为点蒸发源，单位时间内通过任何方向一立体角dω的质量为：

蒸发物质到达任一方向面积元ds质量为：

设蒸发物的密度为ρ，单位时间淀积在ds上的膜厚为t，则：

比较以上两式可得：

干涉条纹间距Δ0，条纹移动Δ，台阶高为

• 石英晶体振荡器法

广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，重要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的主动控制。

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