佛山思博睿科技一种可进步膜层纯度的等离子法沉积膜层的装配

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2022-08-08 14:00:22

择要：本发明公开一种膜层纯度高，可正确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装配，包括有反应室、抽气设备、气体输送体系和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送体系与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送体系设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供给产生的微波，在反应室下方的出气口于抽气设备的一侧设有等离子点火触头，采用本技术方案后，与现有技术相比，本低压等离子体化学气相沉积制得纳米薄膜的装配具有以下好处：1)膜层纯度高，不含多余无用的反应物(即污染物)，膜层粘附性得到进步；2)膜层厚度控制正确。
申请人：佛山市思博睿科技有限公司
地址： 528226 广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地核心园区内C区7座第五层(1-6轴)厂房
发明(设计)人：梁磊
主分类号： C23C16/513(2006.01)I
分类号： C23C16/513(2006.01)I

择要：本发明公开一种膜层纯度高，可正确控制膜层厚度的等离子法沉积膜层的装配，包括有反应室、抽气设备、气体输送体系和脉冲微波发生器，抽气设备和气体输送体系与反应室连通，抽气设备设于反应室的下方，气体输送体系设于反应室上方，脉冲微波发生器向反应室供给产生的微波，在反应室下方的出气口于抽气设备的一侧设有等离子点火触头，采用本技术方案后，与现有技术相比，本低压等离子体化学气相沉积制得纳米薄膜的装配具有以下好处：1)膜层纯度高，不含多余无用的反应物(即污染物)，膜层粘附性得到进步；2)膜层厚度控制正确。

申请人： 佛山市思博睿科技有限公司

地址： 528226 广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地核心园区内C区7座第五层(1-6轴)厂房

发明(设计)人： 梁磊

主分类号： C23C16/513(2006.01)I

分类号： C23C16/513(2006.01)I