上海稷以科技-等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构

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2022-08-08 14:02:06

摘要：本发明涉及真空设备领域，公开了一种等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构，等离子体设备腔体结构包括：料盒、射频电极和接地电极；等离子体表面处理设备包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体，真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物，这些标的物在料盒内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙；料盒的侧壁上设置有若干个通风槽，通风槽和间隙数量相对应设置，使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道；射频电极位于料盒的一侧，且正对气流通道；接地电极至少有一部分位于接地电极位于料盒的另一侧，且正对气流通道。本发明能够提高标的物的表面处理效果。
申请人：上海稷以科技有限公司
地址： 200241 上海市闵行区东川路555号戊楼4026室
发明(设计)人：唐玄玄彭帆
主分类号： H01J37/32(2006.01)I
分类号： H01J37/32(2006.01)I

摘要：本发明涉及真空设备领域，公开了一种等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构，等离子体设备腔体结构包括：料盒、射频电极和接地电极；等离子体表面处理设备包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体，真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物，这些标的物在料盒内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙；料盒的侧壁上设置有若干个通风槽，通风槽和间隙数量相对应设置，使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道；射频电极位于料盒的一侧，且正对气流通道；接地电极至少有一部分位于接地电极位于料盒的另一侧，且正对气流通道。本发明能够提高标的物的表面处理效果。

申请人： 上海稷以科技有限公司

地址： 200241 上海市闵行区东川路555号戊楼4026室

发明(设计)人： 唐玄玄彭帆

主分类号： H01J37/32(2006.01)I

分类号： H01J37/32(2006.01)I

法律状态

2017-12-26	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20170516

2017-12-01	公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

其他信息

主权项	1.一种等离子体表面处理设备，用于清洁标的物(6)，其特征在于，包括：设置有进气模块(3)和抽气口(7)的真空等离子体腔体(1)，所述真空等离子体腔体(1)内设置有料盒(2)、射频电极(5)和接地电极(4)；所述料盒(2)内装有多个标的物(6)，这些标的物(6)在所述料盒(2)内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物(6)之间预留有供气流通过的间隙(8a)；所述料盒(2)的侧壁上开有若干个通风槽(8b)，所述通风槽(8b)和所述间隙(8a)相对应设置，使得所述通风槽(8b)和所述间隙(8a)共同构成了经过所述标的物(6)表面的气流通道(8)；所述射频电极(5)位于所述料盒(2)的一侧，且正对所述气流通道(8)；所述接地电极(4)至少有一部分位于所述料盒(2)的另一侧，且正对所述气流通道(8)；气体经由所述进气模块(3)进入所述真空等离子体腔体(1)内，在所述射频电极(5)和所述接地电极(4)的电场作用下电离，通过所述气流通道(8)并对所述标的物(6)的表面进行处理，再从所述抽气口(7)中被抽出。

公开号	107424897A

公开日	2017-12-01

专利代理机构	上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291

代理人	侯莉

颁证日

优先权

国际申请

国际公布

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