昆山彰盛奈米-一种气流均匀分散装置

WaterOff

2022-08-08 14:05:59

摘要：一种气流均匀分散装置，包括支架，其特征在于：所述的支架的两侧设有固定卡，所述的支架的外侧从上到下设有通气孔，所述的通气孔间的间距从上到下依次减小，所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大。优选的，所述的支架内通过固定架固定有挡流板。本实用新型的有益效果在于：在传统的镀膜设备上加装本实用新型提供的气流均匀分散装置，对进入镀膜设备的气流进行分散处理，为镀膜设备内部提供均匀的气流，保证3D-Wafer晶元硅通孔涂层的均匀稳定性。
申请人：昆山彰盛奈米科技有限公司
地址： 215331 江苏省苏州市昆山市陆家镇杨家路9号1号厂房
发明(设计)人：徐志淮
主分类号： C23C16/455(2006.01)I
分类号： C23C16/455(2006.01)I

摘要：一种气流均匀分散装置，包括支架，其特征在于：所述的支架的两侧设有固定卡，所述的支架的外侧从上到下设有通气孔，所述的通气孔间的间距从上到下依次减小，所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大。优选的，所述的支架内通过固定架固定有挡流板。本实用新型的有益效果在于：在传统的镀膜设备上加装本实用新型提供的气流均匀分散装置，对进入镀膜设备的气流进行分散处理，为镀膜设备内部提供均匀的气流，保证3D-Wafer晶元硅通孔涂层的均匀稳定性。

申请人： 昆山彰盛奈米科技有限公司

地址： 215331 江苏省苏州市昆山市陆家镇杨家路9号1号厂房

发明(设计)人： 徐志淮

主分类号： C23C16/455(2006.01)I

分类号： C23C16/455(2006.01)I

法律状态

2015-09-09	授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

其他信息

主权项	一种气流均匀分散装置，包括支架，其特征在于：所述的支架的两侧设有固定卡，所述的支架的外侧从上到下设有通气孔，所述的通气孔间的间距从上到下依次减小，所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大;以保证上下流阻趋于一致，气流经过支架后均匀分散。

公开号	204625783U

公开日	2015-09-09

专利代理机构	北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人	汤东凤

颁证日

优先权

国际申请

国际公布

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