HZO-从基底上除去珍爱性涂层的选定部分

WaterOff

2022-08-08 13:32:00

择要：从基底，例如电子器件上选择性除去一部分珍爱性涂层的方法包括从该基底上除去部分珍爱性涂层。除去工艺可包括在特定的位置处切割珍爱性涂层，然后从基底中除去所需部分的珍爱性涂层，或者它可包括烧蚀将要被除去的部分珍爱性涂层。还公开了涂布和除去体系。
申请人： HZO股份有限公司
地址：美国犹他
发明(设计)人： D·J·阿瑟尔 T·C·蔡尔德 V·K·卡撒甘尼 C·L·露斯 B·L·史蒂文斯 M·E·索伦森
主分类号： B05D5/12(2006.01)I
分类号： B05D5/12(2006.01)I

择要：从基底，例如电子器件上选择性除去一部分珍爱性涂层的方法包括从该基底上除去部分珍爱性涂层。除去工艺可包括在特定的位置处切割珍爱性涂层，然后从基底中除去所需部分的珍爱性涂层，或者它可包括烧蚀将要被除去的部分珍爱性涂层。还公开了涂布和除去体系。

申请人： HZO股份有限公司

地址： 美国犹他

发明(设计)人： D·J·阿瑟尔 T·C·蔡尔德 V·K·卡撒甘尼 C·L·露斯 B·L·史蒂文斯 M·E·索伦森

主分类号： B05D5/12(2006.01)I

分类号： B05D5/12(2006.01)I

注：本法律状况信息仅供参考，即时正确的法律状况信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

主权项	选择性施涂珍爱性涂层到基底上的方法，该方法包括：施涂珍爱性涂层到基底上；和从该基底的至少一个选择的组件或特性中选择性除去至少一个选定部分的珍爱性涂层，以通过珍爱性涂层暴露至少一个选择的组件或特性。

公开号	104245157A

公开日	2014-12-24

专利代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人	陈季壮

颁证日

优先权	2013.01.08 US 61/750,257;2013.01.08 US 61/750,254

国际申请	2014-01-07 PCT/US2014/010510

国际宣布	2014-07-17 WO2014/110039 EN

进入国家日期	2014.03.04