择要： 公开了施加珍爱性涂层到基底的选定部分上的方法。该方法包括施加掩膜到未被珍爱性涂层覆盖的基底的至少一个部分上或者在其上形成掩膜。可通过施加可流动的材料到基底上

择要： 用于将珍爱涂层施加到电子装配组件或其它衬底的设备可以包括托盘，所述托盘能够保持多个衬底。托盘可以在衬底上方选择性地关闭。下托盘元件和/或上托盘元件可以在上面

择要： 公开了施加珍爱性涂层到基底的选定部分上的方法。该方法包括施加掩膜到未被珍爱性涂层覆盖的基底的至少一个部分上或者在其上形成掩膜。可通过施加可流动的材料到基底上

择要： 本发明公开了一种用于将材料引入材料处理体系的托架体系。在各个特性方面和实施例中，本公开涉及用于容纳并保持前驱物材料的托架体系。托架体系可以用于材料处理体系内

择要： 本发明涉及一种将焊穿聚合物涂层沉积到未涂布的印刷电路板上的方法，其包括在有机硅烷前体单体的聚合室中使用平均低功率和低压等离子体聚合，所述有机硅烷前体单体借助

择要： 本发明涉及一种将焊穿聚合物涂层沉积到未涂布的印刷电路板上的方法，其包括在有机硅烷前体单体的聚合室中使用平均低功率和低压等离子体聚合，所述有机硅烷前体单体借助

择要： 本发明涉及一种将焊穿聚合物涂层沉积到未涂布的印刷电路板上的方法，其包括在有机硅烷前体单体的聚合室中使用平均低功率和低压等离子体聚合，所述有机硅烷前体单体借助

择要： 本发明涉及一种方法，包括步骤：引入包括待在低压力反应腔室中涂敷的外观的衬底；在所述反应腔室内在处理时段期间将所述外观暴露于等离子体；通过施加功率输入来确保稳

择要： 本发明提供用于在例如织物片上施加外观涂层的方法并且进一步提供用于将织物片用聚合物层涂布的等离子体腔室(10)，所述织物例如纺织品材料，等离子体腔室(10)包括在等离子

择要： 本发明涉及一种珍爱物品不致因吸取液体而增重的方法,所述方法包括使所述物品暴露于气态等离子体充足长的时间以在所述物品的外观上产生珍爱层,分外是聚合物层。 申请人：